Algumas partículas ou moléculas de gás não coletadas podem ter consequências extremamente graves em alguns processos. Imagine os danos que o ar contaminado poderia causar à fabricação de semicondutores, discos rígidos e outros processos altamente sensíveis.
Na fabricação de semicondutores, os métodos de produção avançados exigem um fornecimento de ar muito limpo, com requisitos de limpeza aumentando constantemente. O tamanho crítico de partícula para o ambiente de wafer está agora abaixo de 25 nm (2009) e são feitas previsões de que esse tamanho continuará a diminuir para 10 nm até 2017. A contaminação molecular transportada pelo ar (AMC) é agora um problema importante para todas as fábricas microeletrônicas avançadas. Uma ampla gama de efeitos AMC foi observada impactando o rendimento da produção. Por exemplo, foi demonstrado que a corrosão ácida de discos rígidos ou wafers, a deposição orgânica condensável em superfícies sensíveis ou a exposição a baixos níveis de amônia afetam diversas etapas do processo.
O coração da sala limpa são os seus filtros, mas há uma série de considerações relativas à classificação da sala, à escolha do filtro e à forma como os filtros influenciam o ambiente.
A SAF está bem posicionada para recomendar a melhor solução para controle avançado de partículas e AMC, graças a mais de 16 anos de experiência na área de microeletrônica e controle de contaminação de semicondutores, e através de nosso envolvimento no Roteiro Tecnológico Internacional para Semicondutores.
Os filtros HEPA, ULPA e moleculares são produzidos em ambientes controlados nas fábricas certificadas ISO 9000 da SAF. Podemos produzir o mesmo tipo de filtros em vários locais de fabricação. Nossa grande capacidade de produção garante a disponibilidade de nossos produtos em todos os momentos em todo o mundo.
Protegendo:
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Wafers e semicondutores
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Equipamentos de processo microeletrônico
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Unidades de disco rígido
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Placas de circuito impresso
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Monitores de tela plana
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Painéis solares